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真空/氫氣兩用感應燒結爐

產(chǎn)品特點(diǎn)
真空/氫氣保護中頻感應燒結爐是在真空環(huán)境或氫氣氣氛中通過(guò)感應加熱,在粉末冶金工藝中對金屬進(jìn)行燒結的工業(yè)設備。加熱同時(shí),氫氣還可對工件起到還原、提純的作用。該設備在企業(yè)、科研、軍工單位對透明/半透明陶瓷、難熔金屬(如鎢、鉬)及其合金的粉末成型燒結工藝中得到廣泛的應用。性能特點(diǎn)1.工藝氣氛:真空、氫氣保護、真空/氫氣保護兩用。2.裝出料方式:上裝出料、下裝出料。3.被燒結產(chǎn)品密度均勻、晶粒細、含氧量低。4.生產(chǎn)效率高,燒結成本低。5.全自動(dòng)化控制,操作簡(jiǎn)潔,采用紅外測溫和熱電偶連續測溫信號自動(dòng)控制,在2400℃以下可連續使用。6.多重安全保護,實(shí)時(shí)監控,安裝有防爆裝置、缺水報警裝置等。性能參數型 號有效加熱區(mm)*高溫度(℃)溫度均勻度 (℃)溫度控制精度(℃)加熱功率(kw)極限真空度升壓率HSI/VSI-600*1000φ600*10002400≤10±13006.67╳10-3Pa≤1Pa/hHSI/VSI-650*1100φ650*11002400≤10±14006.67╳10-3Pa≤1Pa/hHSI/VSI-650*1300φ650*13002400≤10±14506.67╳10-3Pa≤1Pa/hHSI/VSI-800*1200φ800*12002400≤10±15006.67╳10-3Pa≤1Pa/hHSI/VSI-850*2500φ850*25002400≤10±17506.67╳10-3Pa≤1Pa/hHSI/VSI-1000*3600φ1000*36002400≤10±19006.67╳10-3Pa≤1Pa/hHSI/VSI-1800*1650φ1800*16502400≤10±110006.67╳10-3Pa≤1Pa/h

產(chǎn)品概述

真空/氫氣保護中頻感應燒結爐是在真空環(huán)境或氫氣氣氛中通過(guò)感應加熱,在粉末冶金工藝中對金屬進(jìn)行燒結的工業(yè)設備。加熱同時(shí),氫氣還可對工件起到還原、提純的作用。該設備在企業(yè)、科研、軍工單位對透明/半透明陶瓷、難熔金屬(如鎢、鉬)及其合金的粉末成型燒結工藝中得到廣泛的應用。

性能特點(diǎn)

1.工藝氣氛:真空、氫氣保護、真空/氫氣保護兩用。

2.裝出料方式:上裝出料、下裝出料。

3.被燒結產(chǎn)品密度均勻、晶粒細、含氧量低。

4.生產(chǎn)效率高,燒結成本低。

5.全自動(dòng)化控制,操作簡(jiǎn)潔,采用紅外測溫和熱電偶連續測溫信號自動(dòng)控制,在2400℃以下可連續使用。

6.多重安全保護,實(shí)時(shí)監控,安裝有防爆裝置、缺水報警裝置等。

性能參數

型 號有效加熱區(mm)*高溫度(℃)溫度均勻度 (℃)溫度控制精度(℃)加熱功率(kw)極限真空度升壓率
HSI/VSI-600*1000φ600*10002400≤10±13006.67╳10-3Pa≤1Pa/h
HSI/VSI-650*1100φ650*11002400≤10±14006.67╳10-3Pa≤1Pa/h
HSI/VSI-650*1300φ650*13002400≤10±14506.67╳10-3Pa≤1Pa/h
HSI/VSI-800*1200φ800*12002400≤10±15006.67╳10-3Pa≤1Pa/h
HSI/VSI-850*2500φ850*25002400≤10±17506.67╳10-3Pa≤1Pa/h
HSI/VSI-1000*3600φ1000*36002400≤10±19006.67╳10-3Pa≤1Pa/h
HSI/VSI-1800*1650φ1800*16502400≤10±110006.67╳10-3Pa≤1Pa/h


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